Brief: Entdecken Sie das runde LaAlO3-Wafer-Optiksubstrat, ein beidseitig poliertes Substrat für Hochdruckexperimente, ideal für supraleitende Dünnschichten bei hohen Temperaturen und Mikrowellenanwendungen. Perfekt für elektronische Geräte, Katalyse und mehr.
Related Product Features:
Hochtemperatur-supraleitendes Einkristallsubstrat für Epitaxie-Wachstum.
Ausgezeichnete Gitteranpassung an Materialien mit Perowskit-Struktur.
Geringe dielektrische Verluste, geeignet für Mikrowellen- und dielektrische Resonanzanwendungen.
Kleiner Wärmeausdehnungskoeffizient gewährleistet Stabilität bei wechselnden Temperaturen.
Gute chemische Stabilität, unlöslich in Mineralsäuren bei 25 °C.
Transparent bis braunes Aussehen mit sichtbaren Zwillingen auf poliertem Substrat.
Große Bandlücke und große spezifische Oberfläche für verbesserte Leistung.
Gute thermische Stabilität, Schmelzpunkt bei 2080 °C.
Fragen und Antworten:
Was sind die Hauptanwendungen des runden LaAlO3-Wafer-Optiksubstrats?
Es wird in elektronischen Geräten, der Katalyse, Hochtemperatur-Brennstoffzellen, Keramik, der Abwasserbehandlung und als Substratmaterial für das epitaktische Wachstum von Hochtemperatur-Supraleiter-Dünnschichten verwendet.
Welche Vorteile bietet die Verwendung von LaAlO3 als Substratmaterial?
LaAlO3 bietet eine kleine Dielektrizitätskonstante, geringe dielektrische Verluste, gute Gitteranpassung, einen kleinen Wärmeausdehnungskoeffizienten, gute chemische Stabilität, eine große Bandlücke, eine große spezifische Oberfläche und gute thermische Stabilität.
Wie verhält sich das LaAlO3-Substrat bei hohen Temperaturen?
LaAlO3 hat einen hohen Schmelzpunkt von 2080 °C und eine gute thermische Stabilität, wodurch es sich für Hochtemperaturanwendungen wie Brennstoffzellen und elektronische Geräte eignet.