Das Einzelkristall-Substratmaterial bezieht sich auf eine einzelne Kristallwafer für das epitaxiale Wachstum eines kristalldünnen Films.Und der Begriff "Epitaxy" bezieht sich auf ein anderes gerichtetes Wachstum eines anderen einzelnen Kristalls auf der Oberfläche eines einzelnen Kristalls unter bestimmten Bedingungen.Mit der kontinuierlichen Entwicklung von Wissenschaft und Technologie, insbesondere mit dem Aufstieg und der Entwicklung der Optoelektronikindustrie, ist es nicht möglich, diedie Leistung und Qualität von Dünnschichten werden immer anspruchsvollerDie ursprünglichen Substratmaterialien erfüllen die Anforderungen noch lange nicht, daher werden verschiedene Einzelkristallmaterialien als Substraten verwendet.und das Forschungsfeld erweitert sich ständigMonokristalline Siliziummaterialien sind aufgrund ihrer Kompatibilität mit mikroelektronischen Geräten die bevorzugten Substratmaterialien für viele dünne Folien.Einige der gleichen dünnen Folien, die auf verschiedenen Substraten angebaut werden, können die beste Leistung oder den wirtschaftlichsten Nutzen erzielen.Zum Beispiel gehören zu den GaN-Dünnschicht-Substraten SiC, Al2O3, ZnO, Si und LiAiO2Monokristalline Substratmaterialien bilden die Grundlage der Optoelektronikindustrie.

Als Substratmaterial weist der Einzelkristall folgende Grundmerkmale auf: stabile physikalische und chemische Eigenschaften, leichter Zugang zu großen Einzelkristallen, hohe Wärmeleitfähigkeit,geringer Wärmeausdehnungskoeffizient, gute Wärmebeständigkeit und gute Verarbeitbarkeit.

Typen von Einzelkristallsubstraten

• SiNx

  SiNx-Dünnfolien weisen eine hohe Härte, Korrosionsbeständigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit, gute Wärmeleitfähigkeit und Isolierung sowie eine hervorragende photoelektrische Leistung auf.SiNx-Dünnfolien sind in der Mikroelektronik und in mikromechanischen Systemen weit verbreitet..

• Gewerbliche Dienstleistungen

  Galliumarsenid (GaAs) ist ein III-V-verbundenes Halbleitermaterial, das bei höheren Temperaturen und größeren Richtungsspannungen arbeiten kann.Es ist das bevorzugte Material für die Herstellung von HochleistungseinrichtungenDie Elektronenmobilität ist sechsmal so hoch wie bei Si und die Betriebsfrequenz ist hoch.

• Das ist alles.2O3

  Die Al0.32- Ich weiß.0.78N/GaN einkristalliner dünner Film, der durch epitaxielles Wachstum auf einem Saphir (hauptsächlich2O3) Substrat mit metallorganischer chemischer Dampfdeposition (MOCVD) ist das bevorzugte Material für die Herstellung von Geräten mit hoher Temperatur, hoher Frequenz und hoher Leistung.Das Materialsystem hat ein großes Anwendungspotenzial im Satellitenbereich., Radar, Kommunikation und andere Bereiche.

• SRTIO3

  Strontiumtitanat (SrTiO)3) ist ein weit verbreitetes elektronisches funktionelles keramisches Material, das die Vorteile einer hohen Dielektrikkonstante, geringen Dielektrikverlusten und guter Wärmestabilität aufweist.Und es ist weit verbreitet in der elektronischenGleichzeitig weist Strontiumtitanat als funktionelles Material eine ausgezeichnete photokatalytische Aktivität auf.und besitzt einzigartige elektromagnetische Eigenschaften und eine RedoxkatalysationStrontium-Titanat wurde auch in der photocatalytic Zersetzung von Wasser zur Herstellung von Wasserstoff, photocatalytic Abbau von organischen Schadstoffen und photochemical Batterien weit verbreitet.Außerdem, wird es oft in einen synthetischen Smaragd-Edelstein geschnitten und ist ein sehr guter Diamantersatz.

Anwendungen

• Leuchtende Materialien: Halbleiter-Lichtdioden (LEDs) erzeugen weißes Licht, und aufgrund ihrer energieeinsparenden und umweltfreundlichen EigenschaftenSie sind die wertvollste neue Lichtquelle dieses Jahrhunderts geworden.. Monokristalline Substratmaterialien spielen bei LEDs eine Schlüsselrolle.2O3SiC-Substratmaterialien sind in 6H- und 4H-Typen erhältlich.die die Kontrolle der Produktion erschwertBis 1991 wurde der 6H-SiC-Typ vermarktet, und die Vermarktung von 4H-SiC begann ab 1994.

• Überleitende Materialien: Supraleitende Materialien werden in der Regel auf einem ultraglatten Oberflächen-Einkristall-Substrat hergestellt.Es zeichnet sich durch keine Oberflächenschäden oder Kratzer und keine Untergrundschäden ausDiese ultraglatte Oberflächen-Ein-Kristall-Substrat-Verarbeitung dringt allmählich in viele Bereiche wie Supraleitung, riesige Magnetwiderstand, ferroelektrische dünne Filme und dergleichen ein.Die Quasi-Kubikstruktur vonLaAlO3Bei normaler Temperatur ist ein typisches superglatte Oberfläche Einzelkristall Substrat mit einer Gitterkonstante von 0,379 nm.LaAlO3wird häufig als Substrat für das hochtemperaturfähige supraleitende Material YBCO verwendet.