

zu hause

Über uns

Unternehmensprofil

werksbesichtigung

qualitätskontrolle

Häufig Gestellte Fragen

produits

Magnetoptikkristalle

Einzelkristall Substrate

Piezoelektrische Effektkristalle

Faraday-Isolator

Glitzerkristalle

Laserkristalle

Pockels-Zell-Q-Schalter

Andere Einzelkristalle

TGG-Kristall

TSAG-Kristall

GGG Kristall

LaAlO3-Wafer

Q Wechselkristalle

lösungen

blog

kontakt mit uns

Zitat

ND:YLF Laser Kristallstab bei 1047 nm und 1053 nm verwendet

04:32

ND:YLF Laser Kristallstab bei 1047 nm und 1053 nm verwendet

Nicht doppiert COC Czochralski 0,5 mm Si Einzelkristall Silizium Wafer

00:32

Nicht doppiert COC Czochralski 0,5 mm Si Einzelkristall Silizium Wafer

Rundes LaAlO3-Wafer Optisches Substrat Hochdruck-Experimentelle Phase Doppelseitig poliert

00:32

Rundes LaAlO3-Wafer Optisches Substrat Hochdruck-Experimentelle Phase Doppelseitig poliert

Co:Spinel-optisches Substrat

02:07

Co:Spinel-optisches Substrat

Mit hoher Übertragung 1064 nm

00:15

Mit hoher Übertragung 1064 nm

Faraday-Isolatoren und Rotatoren Magnetooptische Kristalle Terbium Gallium Granat TGG Kristall

00:31

Faraday-Isolatoren und Rotatoren Magnetooptische Kristalle Terbium Gallium Granat TGG Kristall

Einzelkristalline Substrate für Mikrowellengeräte

Einzelkristall Substrate

2021-05-26

6786 Ansichten

Kontaktieren Sie uns jetzt

Teilen

#Substrat laalo3 #einzelne Kristallelemente #Lanthanaluminat

Einzelkristalline Substrate nach Maßgabe von Gd3Ga5O12 GGG ist auch Substratmaterial für Mikrowellengeräte.In den optischen Kommunikationsgeräten, erfordern eine Menge der Verwendung von 1.3u und 1.5u ... Weitere Informationen

Nachrichten des Besuchers Hinterlassen Sie eine Nachricht.

Einzelkristalline Substrate für Mikrowellengeräte

Einzelkristalline Substrate für Mikrowellengeräte

Kontaktieren Sie uns jetzt

Mehr erfahren

Verwandte Videos

ND:YLF Laser Kristallstab bei 1047 nm und 1053 nm verwendet

ND:YLF Laser Kristallstab bei 1047 nm und 1053 nm verwendet

ND:YLF Laser Kristallstab bei 1047 nm und 1053 nm verwendet

Nicht doppiert COC Czochralski 0,5 mm Si Einzelkristall Silizium Wafer

Nicht doppiert COC Czochralski 0,5 mm Si Einzelkristall Silizium Wafer

Nicht doppiert COC Czochralski 0,5 mm Si Einzelkristall Silizium Wafer

Einzelkristall Substrate

Rundes LaAlO3-Wafer Optisches Substrat Hochdruck-Experimentelle Phase Doppelseitig poliert

Rundes LaAlO3-Wafer Optisches Substrat Hochdruck-Experimentelle Phase Doppelseitig poliert

Rundes LaAlO3-Wafer Optisches Substrat Hochdruck-Experimentelle Phase Doppelseitig poliert

Einzelkristall Substrate

Co:Spinel-optisches Substrat

Co:Spinel-optisches Substrat

Co:Spinel-optisches Substrat

Einzelkristall Substrate

Mit hoher Übertragung 1064 nm

Mit hoher Übertragung 1064 nm

Mit hoher Übertragung 1064 nm

Magnetoptikkristalle

Faraday-Isolatoren und Rotatoren Magnetooptische Kristalle Terbium Gallium Granat TGG Kristall

Faraday-Isolatoren und Rotatoren Magnetooptische Kristalle Terbium Gallium Granat TGG Kristall

Faraday-Isolatoren und Rotatoren Magnetooptische Kristalle Terbium Gallium Granat TGG Kristall

Magnetoptikkristalle

NIR 1030nm Öffnung 12mm TGG Glasfaser Isolator

NIR 1030nm Öffnung 12mm TGG Glasfaser Isolator

NIR 1030nm Öffnung 12mm TGG Glasfaser Isolator

Faraday-Isolator

Breiter Emissionswellenlängenbereich von 1350 nm bis 1600 nm in Cr4 YAG Laser Kristallstab für verschiedene Anwendungen

Breiter Emissionswellenlängenbereich von 1350 nm bis 1600 nm in Cr4 YAG Laser Kristallstab für verschiedene Anwendungen

Breiter Emissionswellenlängenbereich von 1350 nm bis 1600 nm in Cr4 YAG Laser Kristallstab für verschiedene Anwendungen

5.91g/Cm3 Dichte Magnetoptische Materialien TSAG Cryatal 400 - 1600nm Wellenlänge

5.91g/Cm3 Dichte Magnetoptische Materialien TSAG Cryatal 400 - 1600nm Wellenlänge

5.91g/Cm3 Dichte Magnetoptische Materialien TSAG Cryatal 400 - 1600nm Wellenlänge

Magnetoptikkristalle

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG optisches Substrat

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG optisches Substrat

7.13g/Cm3 Gd3Ga5O12 1064nm Magneto GGG optisches Substrat

AR-Beschichtung Passive Q-Schalter Cr4+ Yag Laser-Stab für Schönheitslasermaschine

AR-Beschichtung Passive Q-Schalter Cr4+ Yag Laser-Stab für Schönheitslasermaschine

AR-Beschichtung Passive Q-Schalter Cr4+ Yag Laser-Stab für Schönheitslasermaschine